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晶像光電 SOI JX-K302P 四百萬畫素物聯(lián)網(wǎng)感測(cè)器方案
- 晶相光電 JX-K302P 是一款全新四百萬分辨率 CMOS 圖像傳感器,提供了背照式+近紅外線(BSI/NIR)技術(shù)。該技術(shù)能夠明顯提升近紅外靈敏度,實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的圖像質(zhì)量。通過BSI NIR+技術(shù),安防監(jiān)控?cái)z像頭可以使用較少的紅外LED燈,并在低光源和近紅外條件下仍能獲得高質(zhì)量的圖像。搭配不同平臺(tái)SOC,可適用于安防監(jiān)控、車載高清、USB攝影機(jī)、打獵相機(jī)、紅外夜視儀、運(yùn)動(dòng)攝影機(jī)和物聯(lián)網(wǎng) AI 相機(jī)等領(lǐng)域。?場(chǎng)景應(yīng)用圖?產(chǎn)品實(shí)體圖?展示板照片?方案方塊圖SOI-SOI?核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)1. SOI JX-K30
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晶像光電 SOI JX-F355P 兩百萬畫素物聯(lián)網(wǎng)感測(cè)器方案
- 晶相光電 JX-F355P 是一款全新2百萬分辨率 CMOS 圖像傳感器,提供了背照式+近紅外線(BSI/NIR)技術(shù)。可搭配不同平臺(tái)SOC,適用于安防監(jiān)控、車載高清、USB攝影機(jī)、打獵相機(jī)、紅外夜視儀、運(yùn)動(dòng)攝影機(jī)和物聯(lián)網(wǎng) AI 相機(jī)等領(lǐng)域。?場(chǎng)景應(yīng)用圖SOI-SOI?產(chǎn)品實(shí)體圖SOI-SOI?展示板照片SOI-SOISOI-SOI?方案方塊圖SOI-SOI?核心技術(shù)優(yōu)勢(shì)1. SOI JX-F355P BSI NIR+ 近紅外線加強(qiáng) 像素技術(shù),可為在低光或無光環(huán)境中運(yùn)行的應(yīng)用提供新的可能性,同時(shí)降低總功耗
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意法半導(dǎo)體為MCU開啟FD-SOI時(shí)代
- 意法半導(dǎo)體(ST)宣布基于 18 納米全耗盡絕緣體上硅(FD-SOI) 技術(shù)并整合嵌入式相變存儲(chǔ)器 (ePCM)的先進(jìn)制造工藝,支持下一代嵌入式處理器升級(jí)進(jìn)化,并將此技術(shù)應(yīng)用在通用32位MCU市場(chǎng)領(lǐng)先的STM32系列MCU產(chǎn)品。
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SOI芯片熱潮再起,中國(guó)市場(chǎng)信心大增
- 受到美國(guó)政府的干擾,中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展遇到了諸多困難,同時(shí)也給原來沒有得到足夠關(guān)注的技術(shù)或企業(yè)提供了很好的發(fā)展機(jī)遇,SOI(絕緣體上硅)制程工藝就是其中之一。2019 年之前,當(dāng)先進(jìn)制程工藝演進(jìn)到 10nm 時(shí),當(dāng)時(shí)昂貴的價(jià)格,以及漏電流帶來的功耗水平偏高問題,一直是業(yè)界關(guān)注的難題,SOI 正是看到了 FinFET 的這些缺點(diǎn),才引起人們關(guān)注的,它最大的特點(diǎn)就是成本可控,且漏電流非常小,功耗低。在實(shí)際應(yīng)用中,SOI 主要分為 FD-SOI(全耗盡型絕緣體上硅)和 RF-SOI(射頻絕緣體上硅)。FD-SO
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解決 48V 電網(wǎng)及 FuSa 難題, Power-SOI 推動(dòng)智能功率器件創(chuàng)新
- 混合動(dòng)力汽車 (HEV) 和全電動(dòng)汽車 (EV) 設(shè)計(jì)如今廣受關(guān)注,一個(gè)重要的技術(shù)趨勢(shì)正悄然影響著汽車行業(yè)——汽車動(dòng)力系統(tǒng)中的 48V 直流 (DC) 總線系統(tǒng)。48V 系統(tǒng)不僅適用于全電動(dòng)汽車和混合動(dòng)力汽車,它還適用于更常見的內(nèi)燃機(jī)汽車。汽車應(yīng)用 48V 電網(wǎng)48V 系統(tǒng)有何獨(dú)特之處?與在常規(guī)的供電條件下一樣,48V 系統(tǒng)歸根到底仍然遵循歐姆定律和基礎(chǔ)物理學(xué)規(guī)律,與電勢(shì)差 (V = IR)、電功率 (P = IV) 及功率損耗 (P = I2R) 相關(guān)。供電仍需要電流與電壓的結(jié)合,但電勢(shì)差(損耗)隨電流
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X-FAB率先向市場(chǎng)推出110納米BCD-on-SOI代工解決方案
- 中國(guó)北京,2023年6月2日——全球公認(rèn)的卓越的模擬/混合信號(hào)晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,X-FAB成為業(yè)界首家推出110納米BCD-on-SOI解決方案的代工廠,由此加強(qiáng)了其在BCD-on-SOI技術(shù)領(lǐng)域的突出地位。全新XT011 BCD-on-SOI平臺(tái)反映了模擬應(yīng)用中對(duì)更高數(shù)字集成和處理能力日益增長(zhǎng)的需求。其將SOI和DTI極具吸引力的特性結(jié)合在一起,因此與傳統(tǒng)Bulk BCD工藝相比,高密度數(shù)字邏輯和模擬功能可以更容易地集成至單個(gè)芯片。X-F
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攻克復(fù)雜性障礙:下一代 SOI 天線調(diào)諧
- 過去十年,天線調(diào)諧技術(shù)領(lǐng)域發(fā)生了巨大變化。天線變得更小、性能更強(qiáng),能處理更多的射頻信號(hào)。這些發(fā)展的核心是絕緣硅片 (SOI) 技術(shù)——它提供的調(diào)諧能力提高了設(shè)計(jì)靈活性,并大幅改善了性能。復(fù)雜射頻世界中的器件性能有時(shí)候,科技似乎在飛速發(fā)展,日新月異——產(chǎn)品變得越來越小,處理速度越來越快,我們的世界剎那間便不同以往。移動(dòng)設(shè)備的天線也是如此。支持許多頻段的更小移動(dòng)設(shè)備使得天線更加復(fù)雜。對(duì)于工程師而言,這種復(fù)雜性也是需要攻克的障礙。與此同時(shí),技術(shù)開發(fā)工程師每推出一代新技術(shù),都會(huì)做出漸進(jìn)式改進(jìn),通過這種持續(xù)改善來幫
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大聯(lián)大友尚集團(tuán)推出基于CVITEK和SOI產(chǎn)品的網(wǎng)絡(luò)攝像機(jī)(IPC)方案
- 致力于亞太地區(qū)市場(chǎng)的領(lǐng)先半導(dǎo)體元器件分銷商---大聯(lián)大控股近日宣布,其旗下友尚推出基于晶視智能(CVITEK)CV1821芯片和晶相光電(SOI)JX-K06圖像傳感器的網(wǎng)絡(luò)攝像機(jī)(IPC)方案。圖示1-大聯(lián)大友尚基于CVITEK和SOI產(chǎn)品的IPC方案的展示板圖近年來,消費(fèi)電子、物聯(lián)網(wǎng)、工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)、智能家居、智慧城市的發(fā)展,推動(dòng)了智能監(jiān)控技術(shù)的革新,也驅(qū)動(dòng)了IPC(網(wǎng)絡(luò)攝像機(jī))的需求。相比于傳統(tǒng)攝像機(jī),IPC不僅能夠提供更高清晰度的視頻效果,還具有網(wǎng)絡(luò)輸出接口,可直接將攝像機(jī)接入本地局域網(wǎng)。這些特性使其
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ST和GlobalFoundries在法國(guó)Crolles附近的新工廠聯(lián)合推進(jìn)FD-SOI
- 意法半導(dǎo)體(ST)和GlobalFoundries (GF)剛剛簽署了一份諒解備忘錄,將在意法半導(dǎo)體位于法國(guó)Crolles的現(xiàn)有晶圓廠旁邊新建一座聯(lián)合運(yùn)營(yíng)的300毫米半導(dǎo)體晶圓廠。新工廠將支持多種半導(dǎo)體技術(shù)和工藝節(jié)點(diǎn),包括FD-SOI。ST和GF預(yù)計(jì),該晶圓廠將于2024年開始生產(chǎn)芯片,到2026年將達(dá)到滿負(fù)荷生產(chǎn),每年生產(chǎn)多達(dá)62萬片300毫米晶圓。法國(guó)東南部的Crolles,距離意大利邊境不遠(yuǎn),長(zhǎng)期以來一直是FD-SOI發(fā)展的溫床。從許多方面來看,F(xiàn)D-SOI是一種技術(shù)含量較低的方法,可以實(shí)現(xiàn)FinF
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意法半導(dǎo)體和格芯將在法國(guó)新建12英寸晶圓廠,推進(jìn) FD-SOI 生態(tài)系統(tǒng)建設(shè)
- ·????? 隨著世界經(jīng)濟(jì)向數(shù)字化和脫碳轉(zhuǎn)型,新的高產(chǎn)能聯(lián)營(yíng)晶圓廠將更好滿足歐洲和全球客戶需求·????? 新工廠將支持各種制造技術(shù),包括格芯排名前列的 FDX? 技術(shù)和意法半導(dǎo)體針對(duì)汽車、工業(yè)、物聯(lián)網(wǎng)和通信基礎(chǔ)設(shè)施等應(yīng)用開發(fā)的節(jié)點(diǎn)低至18納米的全面技術(shù)·????? 預(yù)計(jì)該項(xiàng)合作投資金額達(dá)數(shù)十億歐元,其中包括來自法國(guó)政府的大筆財(cái)政支持?2022 年
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CEA、Soitec、格芯、意法半導(dǎo)體攜手推動(dòng)下一代FD-SOI技術(shù)發(fā)展規(guī)劃
- CEA、Soitec、格芯(GlobalFoundries)和意法半導(dǎo)體宣布一項(xiàng)新合作協(xié)議,四家公司計(jì)劃聯(lián)合制定產(chǎn)業(yè)之下一代FD-SOI技術(shù)發(fā)展規(guī)劃。半導(dǎo)體組件和FD-SOI技術(shù)創(chuàng)新對(duì)法國(guó)和歐盟以及全球客戶具有策略價(jià)值。FD-SOI能夠?yàn)樵O(shè)計(jì)人員和客戶系統(tǒng)帶來巨大益處,包括更低功耗以及易于整合更多功能,例如,通訊聯(lián)機(jī)和安全保護(hù),這對(duì)汽車、物聯(lián)網(wǎng)和行動(dòng)應(yīng)用而言,其優(yōu)勢(shì)是FD-SOI技術(shù)的一個(gè)重要特質(zhì)。CEA主席Francois Jacq表示,二十多年來,在Grenoble-Crolles生態(tài)系統(tǒng)中,CEA一
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田字形單質(zhì)量塊三軸電容式微加速度計(jì)的設(shè)計(jì)與仿真
- 介紹了一種田字形單質(zhì)量塊三軸電容式微加速度計(jì)的設(shè)計(jì)與仿真。該加速度計(jì)以SOI晶圓作為基片,經(jīng)過氧化、光刻、干法刻蝕和濕法刻蝕等工藝步驟得到。通過支撐梁和3個(gè)軸的敏感結(jié)構(gòu)的巧妙設(shè)計(jì),有效避免了平面內(nèi)和垂直方向的交叉軸干擾的影響,并提高了Z軸的靈敏度。通過差分電容的設(shè)計(jì),理論上消除了交叉軸干擾。通過仿真得到了該加速度計(jì)在3個(gè)軸向上的靈敏度及抗沖擊能力。結(jié)合理論分析和ANSYS仿真結(jié)果,可以得出結(jié)論:所設(shè)計(jì)的加速度計(jì)擁有較低的交叉軸干擾、較高的靈敏度以及較強(qiáng)的抗沖擊能力,在慣性傳感器領(lǐng)域有一定的應(yīng)用前景。
- 關(guān)鍵字: 微加速度計(jì) SOI 交叉軸干擾 靈敏度
Soitec以新技術(shù)為自動(dòng)駕駛發(fā)展保駕護(hù)航
- 作為一家設(shè)計(jì)和生產(chǎn)創(chuàng)新性半導(dǎo)體材料的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)企業(yè),來自于法國(guó)的Soitec以提供高性能超薄半導(dǎo)體晶圓襯底材料來助力整個(gè)信息產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新,通過不斷革新更優(yōu)化的制造材料,確保半導(dǎo)體芯片能夠以更高性能和更好的穩(wěn)定性提供服務(wù)。特別是伴隨著5G技術(shù)的不斷推進(jìn),基于RF-SOI的襯底在確保5G智能手機(jī)用芯片的性能方面起到了至關(guān)重要的作用,可以說Soitec的技術(shù)是促進(jìn)5G智能手機(jī)快速普及的幕后英雄之一。 當(dāng)然,“幕后英雄”也因?yàn)槠湎冗M(jìn)的技術(shù)獲得企業(yè)的飛速發(fā)展,Soitec全球戰(zhàn)略執(zhí)行副總裁Thomas PILISZCZ
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格芯與環(huán)球晶圓簽署合作備忘錄,未來將長(zhǎng)期供應(yīng)12英寸SOI晶圓
- 全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體晶圓代工廠格芯(GLOBALFOUNDRIES)于2月24日宣布已和全球前三大硅晶圓制造商環(huán)球晶圓(Globalwafers.Co.,Ltd)簽訂合作備忘錄(MOU),協(xié)議表明環(huán)球晶圓將負(fù)責(zé)對(duì)格芯12英寸晶圓的長(zhǎng)期供應(yīng)。 環(huán)球晶圓是全球領(lǐng)先的8英寸SOI制造者之一,也是格芯8英寸SOI晶圓的長(zhǎng)期供應(yīng)商,雙方長(zhǎng)期保持著良好的合作關(guān)系。環(huán)球晶圓也是12英寸晶圓制造商,基于雙方未來發(fā)展與穩(wěn)定供應(yīng)需求,環(huán)球晶圓與格芯有望緊密協(xié)作,有力擴(kuò)大環(huán)球晶圓12英寸SOI晶圓生產(chǎn)產(chǎn)能。 格
- 關(guān)鍵字: 硅晶圓 SOI
硬核技術(shù)創(chuàng)新加持,華虹宏力“8+12”特色工藝平臺(tái)為智能時(shí)代添飛翼
- 中國(guó)信通院數(shù)據(jù)顯示,2019年1-10月中國(guó)5G手機(jī)出貨量328.1萬部,發(fā)展速度遠(yuǎn)超業(yè)界預(yù)期。5G商用的加速推進(jìn),讓更廣泛的智能時(shí)代提前到來,隨之而來的是海量的芯片需求。然而,先進(jìn)芯片制造工藝雖有巨資投入,卻僅能滿足CPU、DRAM等一部分芯片市場(chǎng)應(yīng)用需求;像嵌入式閃存、電源、功率芯片等廣泛存在的需求,則主要由華虹集團(tuán)旗下上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司(“華虹宏力”)為首的特色工藝芯片制造企業(yè),基于成熟工藝設(shè)備不斷創(chuàng)新以提升芯片性能和成本優(yōu)勢(shì)來滿足。近日,在中國(guó)集成電路設(shè)計(jì)業(yè)2019年會(huì)(ICCAD 2
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soi介紹
SOI(Silicon-On-Insulator,絕緣襯底上的硅)技術(shù)是在頂層硅和背襯底之間引入了一層埋氧化層。通過在絕緣體上形成半導(dǎo)體薄膜,SOI材料具有了體硅所無法比擬的優(yōu)點(diǎn):可以實(shí)現(xiàn)集成電路中元器件的介質(zhì)隔離,徹底消除了體硅CMOS電路中的寄生閂鎖效應(yīng);采用這種材料制成的集成電路還具有寄生電容小、集成密度高、速度快、工藝簡(jiǎn)單、短溝道效應(yīng)小及特別適用于低壓低功耗電路等優(yōu)勢(shì),因此可以說SO [ 查看詳細(xì) ]
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