新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 臺(tái)積電 投資中國(guó)大陸意愿恐降

臺(tái)積電 投資中國(guó)大陸意愿恐降

作者: 時(shí)間:2023-04-17 來(lái)源:工商時(shí)報(bào) 收藏

研調(diào)機(jī)構(gòu)集邦科技(TrendForce)表示,美國(guó)商務(wù)部近期基于《芯片法案》釋出補(bǔ)貼細(xì)則,其中明文規(guī)定獲補(bǔ)助者未來(lái)十年在中國(guó)大陸、北韓、伊朗與俄羅斯等,將被限制包含先進(jìn)制程與成熟制程在內(nèi)的相關(guān)投資活動(dòng),恐進(jìn)一步降低跨國(guó)半導(dǎo)體業(yè)者未來(lái)十年在中國(guó)大陸的投資意愿,其中(2330)由于在美中兩地皆有設(shè)廠,未來(lái)可能將降低在中國(guó)大陸的投資意愿。

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/202304/445629.htm

美近年陸續(xù)祭出的出口禁令、《芯片法案》等,使得供應(yīng)鏈去中化影響程度加劇。以晶圓代工的供應(yīng)端來(lái)看,回溯當(dāng)時(shí)的出口禁令,雖以「非平面式晶體管架構(gòu)」制程(16/14nm及更先進(jìn)的制程)設(shè)備管制為主,但隨著日本、荷蘭陸續(xù)宣布將加入制裁行列,恐導(dǎo)致同時(shí)可用于生產(chǎn)16納米以下及40/28納米等成熟制程的關(guān)鍵曝光設(shè)備DUV浸潤(rùn)式(immersion)微影被劃入禁令范疇。

再加上本次《芯片法案》限制,意即中系晶圓代工業(yè)者、跨國(guó)晶圓代工業(yè)者在中國(guó)的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃,不論是先進(jìn)或成熟制程皆可能受到程度不等的抑制。

需求端方面,自2023年上半年開(kāi)始,IC設(shè)計(jì)業(yè)者或因終端客戶要求、自主風(fēng)險(xiǎn)規(guī)避等因素,陸續(xù)轉(zhuǎn)單或新開(kāi)案至臺(tái)系晶圓代工業(yè)者,尤以成熟制程為生產(chǎn)主力的Tier 2、Tier 3業(yè)者如世界先進(jìn)(5347)、力積電(6770)明顯受惠。集邦科技認(rèn)為,對(duì)現(xiàn)階段遭庫(kù)存修正沖擊、產(chǎn)能利用率低落的晶圓代工廠無(wú)疑為一大幫助,預(yù)期至2023下半年至2024年對(duì)產(chǎn)能利用率的挹注將更顯著。

集邦科技指出,在本次更新的法案中首當(dāng)其沖,主要是因其在中美兩地均有擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃所致。目前臺(tái)積電在中國(guó)大陸的擴(kuò)產(chǎn)以Fab16的28納米為主,且已于2022年啟動(dòng),擴(kuò)產(chǎn)相關(guān)設(shè)備均已陸續(xù)移入,加上2022年10月后臺(tái)積電已取得為期一年之相關(guān)設(shè)備進(jìn)口許可,預(yù)計(jì)2023年中前將擴(kuò)產(chǎn)完畢。

不過(guò),據(jù)《芯片法案》新細(xì)則來(lái)看,臺(tái)積電獲美補(bǔ)貼后十年內(nèi),F(xiàn)ab16的16/12奈米以及28/22奈米產(chǎn)能擴(kuò)充將受限,且當(dāng)中85%產(chǎn)出須滿足中國(guó)大陸當(dāng)?shù)厥袌?chǎng)需求,加上美出口規(guī)范要求跨國(guó)晶圓代工業(yè)者需申請(qǐng)?jiān)O(shè)備進(jìn)口許可證等,此將降低臺(tái)積電未來(lái)在中國(guó)大陸的投資意愿。

 




關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 trendforce

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)

關(guān)閉