三星:硅技術尺寸微縮還將延續(xù)
三星電子公司執(zhí)行副總裁兼研發(fā)中心總經理Kinam Kim在近日IMEC技術論壇上表示,業(yè)界有人認為芯片特征尺寸微縮極限在5nm左右,而他并不同意這一說法,他相信存在眾多可能的途徑來克服硅微縮過程中所遇到的障礙,使硅產業(yè)越過納米量級。
本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/95014.htmEEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 三星:硅技術尺寸微縮還將延續(xù)
三星電子公司執(zhí)行副總裁兼研發(fā)中心總經理Kinam Kim在近日IMEC技術論壇上表示,業(yè)界有人認為芯片特征尺寸微縮極限在5nm左右,而他并不同意這一說法,他相信存在眾多可能的途徑來克服硅微縮過程中所遇到的障礙,使硅產業(yè)越過納米量級。
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