新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 專利申請質(zhì)量提升 IC業(yè)走向投資技術(shù)密集新階段

專利申請質(zhì)量提升 IC業(yè)走向投資技術(shù)密集新階段

作者:中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)工作部上海硅知識(shí)產(chǎn)權(quán)交易中心 時(shí)間:2009-07-02 來源:中國電子報(bào) 收藏

 

本文引用地址:http://butianyuan.cn/article/95875.htm

  類專利申請年度分布

  



評論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉