專利申請質量提升 IC業(yè)走向投資技術密集新階段 作者：中國半導體行業(yè)協(xié)會知識產權工作部上海硅知識產權交易中心 時間：2009-07-02 來源：中國電子報 加入技術交流群 掃碼加入和技術大咖面對面交流海量資料庫查詢 收藏 <a target='_blank'><img src='https://ad.eepw.com.cn/www/delivery/avw.php?zoneid=88&cb=INSERT_RANDOM_NUMBER_HERE&n=a635e61e' border='0' alt='' /></a> <a target='_blank'><img src='https://ad.eepw.com.cn/www/delivery/avw.php?zoneid=87&cb=INSERT_RANDOM_NUMBER_HERE&n=a576c0a2' border='0' alt='' /></a> 本文引用地址：http://butianyuan.cn/article/95875.htm IC設計類專利申請年度分布 上一頁 1 2 3 4 5 6 下一頁
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