三星和Cadence發(fā)布20納米數(shù)字設(shè)計(jì)方法

　　全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司(納斯達(dá)克： CDNS) 日前宣布，三星電子與Cadence合作推出20納米設(shè)計(jì)方法，包含雙重圖形光刻(double patterning)技術(shù)，面向共同用戶的開(kāi)發(fā)和內(nèi)部測(cè)試芯片。Cadence與三星的合作為移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品帶來(lái)了新的工藝進(jìn)展，使得20納米及未來(lái)工藝節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)成為可能。

　　三星電子設(shè)備解決方案部門系統(tǒng)LSI設(shè)計(jì)技術(shù)團(tuán)隊(duì)副總裁Kee Sup Kim博士說(shuō)：“我們致力于移動(dòng)消費(fèi)電子領(lǐng)域，需要更有效的方法創(chuàng)新，并幫助我們的客戶開(kāi)發(fā)差異化產(chǎn)品。通過(guò)與Cadence合作，我們開(kāi)發(fā)了這種20納米設(shè)計(jì)工藝，利用現(xiàn)有最先進(jìn)技術(shù)，如雙重圖形光刻技術(shù)，使先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)受益。

　　雙重圖形光刻(double patterning)技術(shù)是一種新的關(guān)鍵光刻方法，為先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)提供更高的布線密度。雙重圖形光刻技術(shù)把每個(gè)金屬設(shè)計(jì)層分為兩個(gè)芯片結(jié)構(gòu)掩膜，為20納米及更高節(jié)點(diǎn)的工藝實(shí)現(xiàn)更高的金屬密度和更小的硅晶體面積。

　　這是三星與Cadence多年全面合作開(kāi)發(fā)先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)集成電路的最新里程碑。Cadence^® Encounter^® RTL-to-GDSII 流程， Virtuoso^® 定制/模擬流程，以及Cadence簽收解決方案都通過(guò)三星20納米制造流程的認(rèn)可和應(yīng)用。

　　對(duì)于芯片的數(shù)字部分， Encounter Digital Implementation(EDI)系統(tǒng) 提供了一種用于雙重圖形更正布局和布線的自動(dòng)化方法，采用了申報(bào)中的專利技術(shù)實(shí)時(shí)著色FlexColor。EDI系統(tǒng)在布局、優(yōu)化和布線過(guò)程中提高芯片面積使用率和DRC精度。對(duì)于最終簽收，工程師們采用了Cadence Encounter Timing System、Encounter Power System和QRC Extraction，通過(guò)增強(qiáng)技術(shù)簽收多重參數(shù)提取，在雙重圖形校值中處理變異。

　　Cadence硅實(shí)現(xiàn)部門研發(fā)高級(jí)副總裁Chi-Ping Hsu博士指出：“我們與三星的深度合作始于32納米技術(shù)，并在芯片設(shè)計(jì)和制造方面不斷帶來(lái)重要發(fā)展。三星在先進(jìn)節(jié)點(diǎn)方面的制造經(jīng)驗(yàn)加上我們面向20納米設(shè)計(jì)的工具和方法是這個(gè)項(xiàng)目成功的關(guān)鍵。我們希望通過(guò)與三星的合作，實(shí)現(xiàn)更多的技術(shù)進(jìn)步，使用戶在20納米及更高工藝節(jié)點(diǎn)方面受益。