5nm 工藝文章進(jìn)入5nm 工藝技術(shù)社區(qū)

臺(tái)積電擴(kuò)大開放創(chuàng)新平臺(tái)云端聯(lián)盟，5nm測(cè)試芯片 4 小時(shí)完成驗(yàn)證

晶圓代工龍頭臺(tái)積電近日宣布，擴(kuò)大開放創(chuàng)新平臺(tái)（Open Innovation Platform，OIP）云端聯(lián)盟，其中明導(dǎo)國際（Mentor）加入包括創(chuàng)始成員亞馬遜云端服務(wù)（AWS）、益華國際計(jì)算機(jī)科技（Cadence）、微軟 Azure（Microsoft Azure）以及新思科技（Synopsys）等企業(yè)的行列，成為聯(lián)盟生力軍，拓展了臺(tái)積電開放創(chuàng)新平臺(tái)生態(tài)系統(tǒng)的規(guī)模，并可以運(yùn)用嶄新的云端就緒設(shè)計(jì)解決方案來協(xié)助客戶采用臺(tái)積電的制程技術(shù)釋放創(chuàng)新。
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臺(tái)積電3D芯片2021年量產(chǎn)：面向5nm工藝蘋果或首發(fā)

上周臺(tái)積電發(fā)布了2018年報(bào)，全年?duì)I收342億美元，占到了全球晶圓代工市場(chǎng)份額的56%，可謂一家獨(dú)大。在先進(jìn)工藝上，臺(tái)積電去年量產(chǎn)7nm工藝，進(jìn)度領(lǐng)先友商一年以上，今年量產(chǎn)7nm EUV工藝，明年還有5nm EUV工藝，3nm工藝工廠也在建設(shè)中了。
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臺(tái)積電6nm工藝將推出：與5nm組成蘋果A14雙保險(xiǎn)

臺(tái)積電近日宣布，新的6nm工藝將對(duì)現(xiàn)有的7nm技術(shù)進(jìn)行重大改進(jìn)，同樣擁有極紫外光刻（EUV）工藝，可以快速過渡并快速投產(chǎn)。
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三星5nm EUV研發(fā)完成：功耗降低20%

在芯片代工領(lǐng)域，臺(tái)積電和三星是實(shí)力最強(qiáng)勁的兩大巨頭。不過，最近幾年，臺(tái)積電的實(shí)力要更勝一籌，通過7nm工藝，臺(tái)積電拿到了蘋果、高通、AMD、比特大陸等多家的大訂單。而三星自家最新的Exynos 9820處理器，采用的則還是8nm工藝。今天，三星在官網(wǎng)上帶來了一個(gè)新消息，5nm EUV成功開發(fā)完成。這對(duì)三星而言，算是一個(gè)里程碑式的成就。三星表示，與7nm相比，5nm FinFET工藝功耗降低了20％，性能提高了10％。需要說明的是，三星的7nm工藝去年10月開始宣布并初步生產(chǎn)，今年年初實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。最近三星曝光
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臺(tái)積電5nm待發(fā) 7nm/10nm又雙叒叕落伍了

當(dāng)我們還在糾結(jié)新買的手機(jī)或者電腦是不是最新的7nm或10nm芯片的時(shí)候，臺(tái)積電在本月重磅宣布率先完成5nm的架構(gòu)設(shè)
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臺(tái)積電宣布5nm基本完工開始試產(chǎn)：面積縮小45%、性能提升15%

臺(tái)積電(TSMC)宣布,率先完成5nm的架構(gòu)設(shè)計(jì),基于EUV極紫外微影(光刻)技術(shù),且已經(jīng)進(jìn)入試產(chǎn)階段。
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臺(tái)積電5nm制程蓄勢(shì)待發(fā) 三星恐望塵莫及

4月4日消息，臺(tái)積電宣布在開放創(chuàng)新平臺(tái)之下推出5nm設(shè)計(jì)架構(gòu)的完整版本，協(xié)助客戶實(shí)現(xiàn)支持下一代高效能運(yùn)算應(yīng)用產(chǎn)品的5nm系統(tǒng)單芯片設(shè)計(jì)，目標(biāo)鎖定擁有廣闊發(fā)展前景的5G與人工智能（AI）市場(chǎng)。目前全球7nm以下先進(jìn)制程賽場(chǎng)只剩下臺(tái)積電、三星以及英特爾三個(gè)選手。其中臺(tái)積電搶先進(jìn)入7nm制程，且支持極紫外光（EUV）微影技術(shù)的7nm加強(qiáng)版（7nm+）制程已經(jīng)按原計(jì)劃于3月底量產(chǎn)，全程采用EUV技術(shù)的5nm制程已經(jīng)進(jìn)入試產(chǎn)，臺(tái)積電制程技術(shù)已經(jīng)與英特爾平起平坐，并把三星甩在身后，后者預(yù)計(jì)2020年才會(huì)進(jìn)入7nm E
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芯片設(shè)計(jì)企業(yè)該如何選擇適合的工藝？

　　如何向芯片設(shè)計(jì)企業(yè)推薦最合適的工藝，芯片設(shè)計(jì)企業(yè)應(yīng)該怎么權(quán)衡?不久前，在珠海舉行的“2018中國集成電路設(shè)計(jì)業(yè)年會(huì)(ICCAD)”期間，芯原微電子、Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司、UMC(和艦)公司分別介紹了他們的看法?！　D 從左至右：Cadence南京子公司南京凱鼎電子科技有限公司總裁王琦博士、芯原微電子創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)兼總裁戴偉民博士、UMC(和艦)公司副總經(jīng)理林偉圣　　先進(jìn)工藝選擇的考量　　芯原微電子創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)兼總裁戴偉民博士稱，28 nm以前一切是很好的、沒有爭(zhēng)
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重磅！國產(chǎn)5nm刻蝕機(jī)通過驗(yàn)證，將用于臺(tái)積電5nm芯片制造！

　　近日，臺(tái)積電對(duì)外宣布，將在2019年第二季度進(jìn)行5nm制程風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)，預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)。與此同時(shí)，中微半導(dǎo)體也向“上觀新聞”透露了一個(gè)重磅消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線?！　≈档靡惶岬氖?，中微半導(dǎo)體也是唯一進(jìn)入臺(tái)積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。據(jù)悉，中微半導(dǎo)體與臺(tái)積電在28nm制程時(shí)便已開始合作，并一直延續(xù)到10nm和7nm制程?！　《形雽?dǎo)體如此亮眼成績(jī)的背后，離不開尹志堯和他團(tuán)隊(duì)的多年努力?！　∷艞墖獍偃f年薪工作，只為一顆
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7nm、5nm接踵而至芯片開發(fā)成本將超過2億美元

隨著半導(dǎo)體工藝的急劇復(fù)雜化，不僅開發(fā)量產(chǎn)新工藝的成本大幅增加，開發(fā)相應(yīng)芯片也越來越花費(fèi)巨大，中國大陸無論是代工廠商還是芯片廠商，都需要為這股“前進(jìn)”勢(shì)力付出更多的投入。
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5nm技術(shù)指日可待，EUV技術(shù)有重磅突破

　　全球一號(hào)代工廠臺(tái)積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)。今年4月開始，臺(tái)積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)?huì)使用它制造，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。　　而接下來的第二代7nm工藝(CLNFF+/N7+)，臺(tái)積電將首次應(yīng)用EUV，不過僅限四個(gè)非關(guān)鍵層，以降低風(fēng)險(xiǎn)、加速投產(chǎn)，也借
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華虹第二代0.18微米5V/40V BCD工藝量產(chǎn)

特色工藝純晶圓代工企業(yè)——華虹半導(dǎo)體有限公司宣布，其第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺(tái)已成功量產(chǎn)，該平臺(tái)具有導(dǎo)通電阻低、高壓種類全、光刻層數(shù)少等優(yōu)勢(shì)，對(duì)于工業(yè)控制應(yīng)用和DC-DC轉(zhuǎn)換器等產(chǎn)品是理想的工藝選擇。第二代0.18微米5V/40V BCD工藝平臺(tái)40V DMOS擊穿電壓達(dá)到52V，其導(dǎo)通電阻低至 20 mOhm.mm2，達(dá)到該節(jié)點(diǎn)領(lǐng)先工藝水平，可提高產(chǎn)品的驅(qū)動(dòng)能力，減小芯片面積，擴(kuò)大高壓管安全工作區(qū)（Safe-Operation-A
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莫大康：芯片制造業(yè)要具特色及相對(duì)集中

　　誠然現(xiàn)階段中國半導(dǎo)體業(yè)的發(fā)展，可能并非存在哪種模式下一定優(yōu)越，正是百花齊放的好時(shí)代。但是對(duì)于它的風(fēng)險(xiǎn)性可能尚缺乏足夠的重視與認(rèn)識(shí)。因?yàn)榘雽?dǎo)體業(yè)有許多獨(dú)特的規(guī)律，其中生產(chǎn)線太分散，不但造成互相爭(zhēng)搶人材，力量不能集中，同時(shí)未來要保證生產(chǎn)線的連續(xù)運(yùn)行是十分困難的。因?yàn)槲覀儫o法與如三星、臺(tái)積電、英特爾等大牌廠商相比擬，它們的單條生產(chǎn)線規(guī)模大，訂單穩(wěn)定，設(shè)備廠可以從它的提供服務(wù)中獲得收益?！　?莫大康　　2018年8月27日　　半導(dǎo)體業(yè)的最大特征有兩條：一個(gè)是摩爾定律，每?jī)赡旯に囍瞥糖斑M(jìn)一個(gè)臺(tái)階，基本上同樣工藝
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